Koule nan pwosesis nan pwosesis la metal tounen

Atik sa a pral analize koule nan pwosesis espesifik nan pwosesis la metal tounen ak prensip la pwosesis nan chak etap.

Koule nan pwosesis nan pwosesis la metal tounen:

0040-09095 bwat gaz, WCVD

Kòm yo montre nan foto pi wo a, etap sa yo yo se:
Tape → Manje → Si Etch → Detape → Pre-Tretman → Retounen Metal
Papye adezif rapid rete soude → Downgauging → Silisyòm grave → kap dekale sou papye adezif → pre-tretman → tounen metal

1, tep


Aplike kasèt la ble yo montre nan imaj la pi wo a devan an wafer la pwoteje modèl la sou bò devan nan wafer la.
2, fanm k'ap pile: bò a tounen nan wafer la Silisyòm se tè ak eklèsi nan yon epesè ki apwopriye yo, epi li se metòd la nan polisaj mekanik adopte
3, Si grave: Apre dèyè eklèsi, pral gen anpil domaj sou dèyè a nan wafer la epi pral gen Silisyòm poud rezidi. Nan moman sa a, estrès entèn nan wafer la se gwo anpil ak fasil fragman, ak Silisyòm korozyon ka elimine estrès entèn li yo, epi fè brutality sifas li yo pi gwo, ak metal la se pi fasil akimile sou li.

Asid nitrik ak asid idrofluoric yo souvan itilize pou grave, ak ekwasyon an se: si+hno 3+6 hf=h2sif 6+ H2No 2+ H2O+H2
4, pre-tretman: pwòpte nan do a nan wafer la Silisyòm gen yon gwo enfliyans sou fòs la obligatwa nan metal la nan kouch nan pitit pitit nan Si, kidonk li nesesè asire bon jan netwayaj. Anjeneral, BOE yo itilize pou lave kouch oksid natirèl sou sifas Silisyòm lan.

5, tounen metal: Sèvi ak evaporasyon gwo bout bwa elèktron oswa mayetron sputtering, se kouch nan metal ki koresponn depoze, pran Ti/Ni/Au (Ag kòm yon egzanp), epesè a metal ki koresponn mwen te wè se: Ti1kå, Ni3.5kå, Au ( Ag) 1Kå (6kå), nan kou, epesè a ka varye selon sèn nan espesifik.

0021-09760 bwat gaz dxz